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ALD-02原子層沉積系統(tǒng) ALD

價(jià)  格：詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地：美國(guó)更新時(shí)間：2020-09-23 14:56

品  牌：SVT Associates型  號(hào)：ALD-02

狀  態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1498

400-006-7520
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配送方式： 上海自提或三方快遞

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The Advanced ALD system is a viscous flow-type reactor for ultra thin film deposition. The growth process is controlled by a Windows-based software package. The base model is equipped with two gas lines and handles wafer size up to 12 ". With a compact footprint, all hardware is enclosed in a negative pressure cabinet for safety more information.


產(chǎn)品參數(shù)

Operation Vacuum: 1 Torr to UHV
2 Heated Gas Lines (can be expanded to 12)
Gas injection mode: bubbler and direct draw
Sample size: up to 4 in standard, optional 12in
Substrate heater: up to 500°C, optional higher temp


產(chǎn)品介紹

Applications
High k dielectrics
Nanocoatings
Surface modification layers
Device encapsulations
Photonic crystals
Optional add-on components
Remote plasma source
Ozone delivery system
Quartz crystal monitor
Quadruple mass spectrometer
Real-time temperature monitor
Ellipsometer
LoadLock
 



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